Tyvek® 500 Labo Overall, Kapuze, mit Überschuhen Entsorgungssack Der Gesichtsschutzschirm UniMask mit 5-Punkt-Halterung

Der Gesichtsschutzschirm UniMask mit 5-Punkt-Halterung von CleanAIR® ist speziell für anspruchsvolle Arbeitsumgebungen entwickelt worden

Reflektoren für bessere Sichtbarkeit

Reißverschlussabdeckung: Die Abdeckung des Reißverschlusses sorgt für zusätzlichen Schutz und verhindert das Eindringen von Partikeln

Die Hi5 X Chem Handschuhe sind mit einem Anti-Rutsch-Muster ausgestattet

Einsatzbereiche des CleanAir A2B2E2K2P3 Filters

Tyvek® 500 Labo Overall, Kapuze, mit Überschuhen Entsorgungssack Der Gesichtsschutzschirm UniMask mit 5-Punkt-HalterungTyvek 500 Labo Schutzanzug fr Labor und Reinraumanwendungen Der Tyvek 500 Labo von DuPont ist eine Chemikalienschutzkleidung der Kategorie III, Typ 5 und 6, die speziell fr den Einsatz in Laboratorien, der pharmazeutischen Industrie sowie in der Kosmetik , Optik und Elektronikproduktion entwickelt wurde. Der Anzug bietet dank seines Materials aus hochdichtem Polyethylen eine zuverlssige Barriere gegen feine Partikel und wasserbasierte Flssigkeiten.